https://ru.wikipedia.org/wiki/Электронная_литография

Электронная литография является основным методом получения масок для использования в последующей фотолитографии при производстве монолитных микросхем (в том числе масок для проекционной фотолитографии при массовом производстве сверхбольших микросхем).

Электронная литография позволяет получать структуры с разрешением менее 1 нм, недостижимое для жесткого ультрафиолетового излучения, благодаря более короткой де-Бройлевской длине волны электронов по сравнению со светом

Имеет невысокую производительность, при производстве единичных экземпляров электронных компонентов

Applied Materials
Leica
Hitachi
Toshiba
JEOL
Etec

Отредактировано Лис (2019-05-13 20:47:09)