https://mapperllc.ru/ru/about-us/
2012, основано как 100% дочернее предприятие холдинга Mapper Lithography при финансовой поддержке Роснано.
2013 - построена МЭМС фабрика (МЭМС = микроэлектромеханических систем)
2014-10 - выпущены первые кремниевые электронные линзы
2014 - серийное производство элементов электронной оптики для головной компании
  расширен ассортимент выпускаемых кремниевых линз
  начата отладка технологического процесса по производству элементов с управляющими электродами
2015 - МЭМС продукты и для других заказчиков

30 единиц производственного оборудования, предназначенного для обработки 100 мм пластин
30 человек, проходят практику около 10 студентов различных технических ВУЗов
  20 человек штат по данным HH - https://hh.ru/employer/1554966

на территории Технополиса «Москва» при финансовой поддержке корпорации «Роснано»
(российский производственный участок голландской компании Mapper).

https://ru.wikipedia.org/wiki/Mapper_Lithography

нидерландская компания, разрабатывающая установки безмасочной многолучевой электронной литографии

используются тысячи параллельных электронных пучков (модель Matrix 1.1 — около 1,3 тысяч, Matrix 10.10 — 13,3 тысячи).
передача маски на управляющую MEMS матрицу должна происходить с высочайшими скоростями (общая — до 10 ТБайт/с, каждый канал около 7,5 Гбит/с)

10 пластин 32 нм диаметром 300 мм в час

предлагается создание кластерного литографа с общей производительностью в 100 пластин в час.
В составе кластера будет устанавливаться десять модулей

компания Mapper хочет (хотела в 2012) построить новый завод по сборке литографов в Делфте. Его производительность составит до 20 установок в год.

Вопрос - почему такое низкое разрешение? Что мешает? Оно мешает фатально или нет - можно ли догнать EUV?

Отредактировано Лис (2019-05-16 12:03:14)