2022-10-20
https://tehnoomsk.ru/archives/6359

В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН)
ведется разработка первой отечественной установки литографии
для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам.

демонстратор технологии на рентгеновском источнике излучения,
получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм.

на третьем этапе (2026-2028 годы) русский литограф получит более мощный источник излучения,
улучшенные системы позиционирования и подачи, станет работать быстро и точно.
Вот тут, возможно, мы и дойдем до «наших 7 нанометров».

В России стоит задача не захватить мировой рынок, а первоначально обеспечить запросы своего.
(поэтому российские микросхемы будут дорогими и распространяться только юрлицам под подписку).