https://dzen.ru/a/ZlCh5aCuq3xybFw8
https://tehnoomsk.ru/archives/12795
АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ)
ОАО «Планар» (Белорусский), Сергей Аваков
изготовление СБИС с проектной топологической нормой 0,13 мкм
Точность фокусировки, нм — ±300
Невоспроизводимость фокусировки, мкм, не более — ±0,1
Точность позиционирования, нм — ±5
Случайная составляющая погрешности совмещения (3σ), нм, не более — 60
Метки совмещения — дифракционно-фазовые
Геометрические характеристики кремниевых пластин должны соответствовать требованиям стандартов SEMI,
в т.ч. по параметру локальной неплоскостности (методика SBIR), (на поле 22 х 22 мм), мкм, не более — 0,1
две (диаметром 150 и 200 мм) кассеты для загрузки и выгрузки пластин (SMIF-контейнер, 25 пластин).
Производительность, пластин в час — 100
«максимум 876000 за год из одной установки»
это не промышленный литограф. Он не предназначен для выпуска сотен и тысяч пластин потоком.
Только для небольших партий.
«SMIF (Standard Mechanical InterFace) — это стандарт SEMI E19-1105 на механическое оборудование для автоматизированных микроэлектронных производств. Контейнеры SMIF используются для хранения и перемещения полупроводниковых пластин между установками, обеспечивая повышенную чистоту. Они применяются при работе с пластинами диаметром до 200 мм.»
Лазер 193 нм для технологической нормы до 80 нм (задел для следующего литографа на 90 нм).
«директор лассарда говорил что по лазеру 193 начнут работу только в 2025»
https://optosystems.ru/products/excimer/
К 2030 запланирован литограф на 90 (это планы), если получится, то 65 нм. К 2035 будет 28 нм, а 28 это исследования.
Отредактировано Лис (2024-06-16 13:39:38)