на данный момент в мире три компании могут производить фотолитографические установки
ASML
Nicon
Canon
Современные технологии стали слишком тонкими для "пришел, увидел, повторил".
Для них требуется развитие огромного пласта точного производства.

Устройство контроля масок с рентгеновским источником излучения
http://www.euvlabs.net/wp-content/uploa … tation.pdf
Этот же источник может являться компонентом литографической машины.
причина замедления прогресса в EUV литографии - слабая мощность источника излучения,
из-за чего производительность EUV машин меньше по сравнению с ранее созданными изделиями от ASML.
Выгоднее в несколько проходов создать микросхему по современным топонормам на старом иммерсионном оборудовании, чем на новом применяющим мягкий рентген.

Метрологическое оборудование на таких топонормах также использует мягкий рентген, по этому этот же источник решает проблему создания целой группы оборудования для производства микросхем.